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设备材质要求、施工安装要求等,包括原料质量控制,设备、管道、阀门装备质量控制,设。按照多晶硅质量控制要求,建立多晶硅质量控制体系,包括进入还原炉的原料纯度与控制。

因此引起了制备高纯度Ge和Si的研究。在许多半导体材料中,到目前为止,锗和硅被认为。8金存忠;我国半导体材料及生长加工设备迅速发展[N];中国电子报;2000年9卢业忠;LE。

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1.(2019高二下·浙江期末)工业上可用焦炭与二氧化硅的混合物在高温下与氯气反应生成SiCl4,SiCl4经提纯后用氢气还原得高纯度硅。以下是实验室制备SiCl4的装置示意图。

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如果需要生长及高纯度的硅单晶,其技术选择是悬浮区熔提炼,该项技术一般不用于GaA。做了大直径区熔硅单晶生长设备电磁场及温度场的数值模拟与实验研究,考虑了两。详情>>区熔法的分类-单晶生长-类似的方法-模拟仿真

一种从冶金级硅开始制备用于光电用途的硅的方法,包括通过由适合于防止硅污染的材料所制成的设备所执行的以下步骤:提供具有减少的硼,磷和金属杂质含量的二氧化硅粉末和。

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将所述高纯度氟硅酸铵固体加热到100～150℃,使其分解生成四氟化硅气体和氟化铵气体;4)将所述四氟化硅和氟化铵气体导入到反应设备中,使其与高纯氨水进行氨解反应,生成。

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[0004]目前国内生产高纯度四氯化硅工艺产品质量不稳定,不能实现连续工业化生产,无法满足光纤领域的使用要求。因此需要一种设备简单并能实现高纯度四氯化硅连续生产的。